为什么造一台光刻机这么难? 主要是因为光刻机的配件多，工艺极其复杂苛刻，一台 EUV 光刻机有10 万个配件，从紫外光源、光学镜头、精密运动和环境控制等各个环节集结了全球顶级技术。 即使是荷兰的阿斯麦，也只是相当于技术高超的组装工厂，比如德国提供蔡司镜头设备，日本提供特殊复合材料，瑞典提供工业精密机床，美国提供控制软件等等，其制造的整个过程更是需要数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术，可以说，荷兰阿斯麦的光刻机生产，是汇集了目前人类整体智慧的结晶。 所以说，我们国家要想以一己之力赶超全球顶尖科技，独立制造出顶级光刻机，难度之大可想而知，所以有一种说法是，即使荷兰人把图纸给我们，也造不出来，这并不是夸大其词。 同时，我国在光刻机研发领域起步较晚，研发初期简直是毫无头绪，不过我国目前在研发制程约为28纳米的光刻机，虽然与荷兰高精度光刻机的5到7纳米还有很大差距，但也算有不小的进步了。 再加上西方一些国家对我国进行技术封锁，光刻机很多核心零部件都需要我们自己去研发，而每一个核心部件可能都需要几万次几十万次，甚至上百万次的实验才有可能验证成功，这不是一般的难，而且是急不来的。 曾经有一位美国工程师也印证了上面的说法，他说“光刻机的一个小零件，工程师就需要调整高达十年之久，就连尺寸的调整就要高达百万次以上。 由此可见，光刻机技术不是一年半载就能够突破的，它的制造需要有长时间的技术积累和基础学科的知识沉淀。 但即使再难，相信我们国家的科学家们一定有办法实现超越，期待我国在光刻机领域能够早日突破困境，加油！